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水性墨水納米高剪切分散機

水性墨水納米高剪切分散機 轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

  • 產(chǎn)品型號:XRS000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2023-11-13
  • 訪  問  量:1303
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詳細介紹

水性墨水納米高剪切分散機

分散機是分散是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發(fā)生化學反應的物質(zhì)的混合過程。工業(yè)分散的目標是在連續(xù)相中實現(xiàn)“令人滿意的”精細分布。

墨水是墨水和油漆涵蓋了涂裝和噴涂應用的很多類產(chǎn)品。墨水和油漆通常分為油相和水相兩種,并有添加色素或樹脂。如采用傳統(tǒng)加工方式,需要花費相當長的時間來溶解樹脂,還會發(fā)生沉淀和結塊。使用設備,客戶可以高效率生產(chǎn)高品質(zhì)的產(chǎn)品。

縮短工藝時間。設備產(chǎn)生的高剪力,可以打碎樹脂顆粒,并暴露于溶劑中,加速溶解過程。

提升產(chǎn)品品質(zhì)。根據(jù)原料和產(chǎn)品的細度,設備可以研磨色素,或消除 終產(chǎn)品的結塊。有多種分散頭供選擇,能完美的勝任各項任務。

墨水納米分散機是 顆粒細化到納米級后,其表面積累了大量的正、負電荷,納米顆粒的形狀極不規(guī)則,這樣造成了電荷的聚集。納米顆粒表面原子比例隨著納米粒徑的降低而迅速增加,當降至1nm時,表面原子比例高達90%,原子幾乎全部集中到顆粒表面,處于高度活化狀態(tài),導致表面原子配位數(shù)不足和高表面能。納米顆粒具有很高的化學活性,表現(xiàn)出強烈的表面效應,很容易發(fā)生聚集而達到穩(wěn)定狀態(tài),從而團聚發(fā)生

*納米氧化物極易產(chǎn)生自身的團聚,使得應有的性能難以充分發(fā)揮。此外,納米氧化物的諸多奇異性能能否得到充分發(fā)揮,還取決于限度降低粉體與介質(zhì)間的表面張力。因此,納米氧化物粉體必須均勻分散,充分打開其團聚體,才能發(fā)揮其應有的奇異性能。

墨水納米分散機

分散機的高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是 重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,希德公司在XR2000系列的基礎上又開發(fā)出XRS2000超高速分散機。其剪切速率可以超過100.00 rpm,轉子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設備。

三級高剪切分散機器,主要用于微乳液及超細懸乳液的生產(chǎn)。由于工作腔體內(nèi)三組分散頭(定子+轉子)同時工作,乳液經(jīng)過高剪切后,液滴更細膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。三組分散頭均易于更換,適合不同工藝應用。該系列中不同型號的機器都有相同的線速度和剪切率,非常易于擴大規(guī)模化生產(chǎn)。也符合CIP/SIP清潔標準,適合食品及醫(yī)藥生產(chǎn)。

高的轉速和剪切率對于獲得超細為懸浮乳液是重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,其剪切速率可以超過15000rpm,轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

以下為型號表供參考:

型號

標準流量

L/H

輸出轉速

rpm

標準線速度

m/s

馬達功率

KW

進口尺寸

出口尺寸

XRS2000/4

300-1000

18000

44

4

DN25

DN15

XRS2000/5

1000-1500

10500

44

11

DN40

DN32

XRS2000/10

3000

7300

44

22

DN50

DN50

XRS2000/20

8000

4900

44

37

DN80

DN65

XRS2000/30

20000

2850

44

55

DN150

DN125

XRS2000/50

40000

2000

44

160

DN200

DN150

水性墨水納米高剪切分散機

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